EpiPro 5000 是 CSD（Thermco Systems）公司推出的一款双腔外延反应器，主要用于在 75mm 至 200mm 的硅晶圆上生长外延层。以下是其详细介绍：
设备特点
独特的钟罩设计：反应腔采用专利钟罩设计，可在大面积上均匀输送反应气体，有助于提高外延层的均匀性。
精确的温度控制：利用外部光纤传感器测量基座背面的温度，使温度重复性不受沉积过程的影响。同时，通过将射频频率降低到 25kHz，显著增强了与基座的射频耦合，进一步提高了温度均匀性并减少了滑移。
灵活的外延厚度处理：是唯一能够灵活处理 1 微米至 100 微米以上宽范围外延硅厚度的外延反应器，并且对所有薄膜厚度都有严格的工艺控制。
高产量：该设备可处理多达 36 片 150mm 的晶圆，是目前最大的外延批量尺寸，相比竞争设备提高了 50%。此外，系统可以并排安装，每单位占地面积的产量可额外节省 30%。
性能优势
良好的均匀性：对于 6 英寸晶圆，其厚度均匀性可达 ±4%，电阻率均匀性也可达 ±4%。
优秀的工艺能力：凭借其独特的设计和控制技术，EpiPro 5000 能够实现出色的厚度和电阻率均匀性，以及极 sharp 的掺杂过渡，在薄膜质量和工艺控制方面表现出色。
操作模式
手动型：EpiPro 5000 为手动装卸版本，配备双反应器、感应线圈加热系统和单切换射频发生器源。
自动型：EpiPro 5000 IG 有手动和自动装卸两种版本，其中自动装卸版本配备双反应器、感应线圈加热系统，且每个反应器都有专用的射频发生器源，以实现更高的产量。此外，该设备还升级了 PLC 控制系统，带有 Windows 操作系统触摸屏 GUI，并提供 SECS/GEM 接口
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